[发明专利]一种喷淋装置有效
| 申请号： | 200610025650.7 | 申请日： | 2006-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN101055417A | 公开（公告）日： | 2007-10-17 |
| 发明（设计）人： | 何基宏 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/26;B05B1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明为一种便于在湿式显影和蚀刻过程中控制图形区内线宽误差的喷淋装置。所述喷淋装置采用由至少一个具有圆周分布的喷头组组合而成的组合喷头进行喷淋。所述喷头组内各喷头等距排列，且由同一流量控制器控制，每一喷头流量相同；所述沿不同圆周分布的喷头组可分别由不同的流量控制器控制。利用具有不同圆周分布的喷头组构成的组合喷头可分别为不同区域设定喷淋参数，协调待处理元件各部分与喷淋特定溶液间的反应程度，控制线宽误差的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 喷淋 装置 | ||
【主权项】：
1.一种喷淋装置，所述喷淋装置由可旋转托台(10)和组合喷头(20)构成；所述可旋转托台(10)设置于所述组合喷头(20)的下方，待处理元件(60)置于所述可旋转托台(10)上方；其特征在于：所述组合喷头(20)由至少一个具有圆周分布的喷头组(30)组成。
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