[发明专利]一种二氧化硅磨料的制备方法无效
| 申请号： | 200610027057.6 | 申请日： | 2006-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN101077946A | 公开（公告）日： | 2007-11-28 |
| 发明（设计）人： | 王国森;潘忠才;张楷亮 | 申请（专利权）人： | 浙江宏达化学制品有限公司 |
| 主分类号： | C09C1/68 | 分类号： | C09C1/68 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 | 代理人： | 邱顺富 |
| 地址： | 312369浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种二氧化硅磨料的制备方法，它以水玻璃为原料，包括初纯、晶种制备、增加粒径和纯化四个步骤：初纯是将水玻璃稀释到SiO2含量不高于15％，过滤，经阳离子树脂交换；晶种制备是将初纯后的液体调整到pH8.0－11.0，在搅拌条件下逐渐加热升温至60－135℃，冷却；增加粒径是将晶种制备得到的液体在搅拌条件下升温至60－135℃，加入温度不高于50℃初纯得到的液体：加料流量不高于4倍晶种液体体积量/小时，加料流速在30－40m/s，得到粗磨料；纯化是将粗磨料经阳离子和阴离子树脂进行交换，得到成品。本发明获得的磨料颗粒均匀、纯度高，能满足电子行业抛光磨料的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二氧化硅 磨料 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种二氧化硅磨料的制备方法，它以水玻璃为原料，其特征包括初纯、晶种制备、增加粒径和纯化四个步骤：所述初纯是将水玻璃稀释到SiO2重量含量不高于15％，过滤，将滤液通过阳离子树脂进行交换，除去钠离子和其它阳离子杂质；所述晶种制备是将初纯后的液体调整到PH8.0-11.0，在搅拌条件下逐渐加热升温至60-135℃，进行晶种的聚合，冷却后得高均匀度的硅溶胶；所述增加粒径是将晶种制备得到的高均匀度的硅溶胶在搅拌条件下升温至60-135℃，加入温度不高于50℃初纯得到的液体，加入初纯得到的液体控制：加料流量不高于4倍晶种制备得到的高均匀度的硅溶胶体积量/小时，加料流速在30-40m/s，得到二氧化硅粗磨料；所述纯化是将二氧化硅粗磨料经阳离子树脂和阴离子树脂进行交换，得到成品二氧化硅磨料。
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