[发明专利]使基于模型的光学近似修正更精确的方法有效
| 申请号： | 200610027446.9 | 申请日： | 2006-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN101086623A | 公开（公告）日： | 2007-12-12 |
| 发明（设计）人： | 洪齐元;高根生;张斌;邓泽希 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种使基于模型的光学近似修正更精确的方法，其根据现有光学近似修正方法的误差制订补偿性的修正规则，根据这种规则修正后可以更好地控制光刻形成的特征图案的关键尺寸(CD)，使数据模型趋向稳定和收敛，将误差控制在容许的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 模型 光学 近似 修正 精确 方法 | ||
【主权项】：
1、一种使基于模型的光学近似修正更精确的方法，其特征在于：在进行基于模型的光学近似修正之前，先进行基于规则的光学近似修正，其中基于规则的光学近似修正用来补偿模型预测数据和真实晶片数据之间的偏移量。
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