[发明专利]焊料凸块及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200610027588.5 申请日: 2006-06-12
公开(公告)号: CN101090099A 公开(公告)日: 2007-12-19
发明(设计)人: 靳永刚;王津洲;蒋瑞华 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L21/60;H01L21/28
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 逯长明
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种焊料凸块及其制造方法,用以提高封装可靠性并减小封装体积,同时降低成本;首先,在晶片上或凸点下金属层(UBM)上涂覆一层图案化的光致抗蚀剂,用以形成图形区;所述UBM层包括逐层沉积的Cr/Cu、Cr/CrCu/Cu、Ti/Cu、TiW/Cu或Ta/Cu;随后,在所述图形区内、晶片上或UBM层之上形成一层Ni作阻挡层;并在所述图形区内、阻挡层之上形成一层Cu作焊接层;最后,移除所述非图形区的光致抗蚀剂层,并刻蚀所述光致抗蚀剂层的非图形区覆盖的UBM层;继而在所述焊接层上形成焊料凸点;借以通过焊接等方式实现晶片与外界电路的连接。
搜索关键词: 焊料 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种焊料凸块,其特征在于,包括:在晶片(100)表面形成的焊盘(200);在所述焊盘(200)上依次形成的UBM层(700)、阻挡层(710)、焊接层(720);以及形成于所述焊接层(720)上的焊料凸点(800);所述UBM层(700)具有多层结构;所述UBM层(700)的最下层与焊盘(200)相连,其最上层与阻挡层(710)相连。
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