[发明专利]一种化学机械研磨机台化学液供给装置有效
| 申请号： | 200610029775.7 | 申请日： | 2006-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN101121239A | 公开（公告）日： | 2008-02-13 |
| 发明（设计）人： | 王海军;王贝易;方精训;程晓华;刘艳平 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;H01L21/304;B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁纪铁;李隽松 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械研磨机台化学液供给装置，除具有供给手臂和喷嘴外，还具有：至少一汽缸，以控制供给手臂的横向运动；至少一个步进马达，以控制供给手臂的纵向运动；控制软件单元一，控制汽缸的横向运动；控制单元二，控制所述步进马达从而控制化学研磨液喷嘴的径向运动。本发明可以改变研磨液供给装置的供液方式，使得化学研磨液的喷嘴在研磨过程中沿径向移动，改善了研磨液在研磨过程中在晶圆表面的分布。从而改善了化学主导作用的研磨工艺(比如：钨研磨)的平整度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械 研磨 机台 供给 装置 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨机台化学液供给装置，具有供给手臂和喷嘴，其特征在于，还具有：至少一汽缸，以控制所述供给手臂的横向运动；至少一个步进马达，以控制所述供给手臂的纵向运动；控制软件单元一，控制所述汽缸的横向运动；控制单元二，控制所述步进马达从而控制化学研磨液喷嘴的径向运动。
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