[发明专利]用于半导体制程中的金属防腐蚀清洗液有效
| 申请号： | 200610030456.8 | 申请日： | 2006-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN101130876A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 徐春;宋伟红;荆建芬;顾元 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/06 | 分类号： | C23G1/06 |
| 代理公司： | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种用于半导体制程中金属防腐蚀的清洗液。其特征在于，包括一种或多种不仅能够有效清除金属表面各种残留，同时能够有效防止金属表面腐蚀的化学添加剂。本发明的清洗液不仅能够有效清除金属表面各种残留，大大降低对后续工艺的干扰，而且能够大大降低金属材料的表面点蚀，减低表面腐蚀程度，从而降低缺陷，提高清洗效率和产品良率，增加产品收益率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 中的 金属 腐蚀 清洗 | ||
【主权项】：
1.一种用于半导体中金属防腐蚀的清洗液，其特征在于：包括一种载体，还包括一种或多种有效清除金属表面各种残留，同时有效防止金属表面腐蚀的有机酸化学添加剂。
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