[发明专利]一种Ta2AlC纳米层状块体陶瓷及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200610046805.5 申请日: 2006-06-02
公开(公告)号: CN101081737A 公开(公告)日: 2007-12-05
发明(设计)人: 周延春;胡春峰;包亦望 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C04B35/56 分类号: C04B35/56;C04B35/622
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 代理人: 张志伟
地址: 110016辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及一种原位反应热压制备Ta2AlC纳米层状块体陶瓷及其制备方法。所述Ta2AlC纳米层状陶瓷属六方晶系,空间群为P63/mmc,单胞晶格常数a为3.08,c为13.85,理论密度为11.52g/cm3。其晶体结构中Al和Ta以较弱的共价键相结合,使Ta2AlC在变形时易沿[0001]方向在此处产生剪切变形,表现一定的显微塑性。它是优良的热电导体,易加工和对热震不敏感,是潜在的高温结构与功能材料。单相Ta2AlC具体制备方法是:首先,以钽粉、铝粉、石墨粉为原料,干燥条件下在树脂罐中球磨10~20小时,过筛后装入石墨模具中冷压成型(10~20MPa),在真空或通有氩气的热压炉内烧结,升温速率为10~15℃/分钟,在1500~1700℃烧结,保温时间为20~120分钟,施加压力为20~40MPa。本发明制备的Ta2AlC陶瓷具有致密度高、纯度高的特点。
搜索关键词: 一种 ta sub alc 纳米 层状 块体 陶瓷 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种Ta2AlC纳米层状块体陶瓷,其特征在于:Ta2AlC纳米层状陶瓷属六方晶系,空间群为P63/mmc,晶体结构中Al与Ta-C-Ta链以弱共价键结合;通过原位反应热压技术所制备的单相Ta2AlC相对密度为98.5~99.5%,平均晶粒尺寸长度为10~15μm,宽为2~3μm。
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