[发明专利]化学机械研磨用水系分散体及研磨方法、调制用的试剂盒无效
| 申请号： | 200610056893.7 | 申请日： | 2006-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN1831076A | 公开（公告）日： | 2006-09-13 |
| 发明（设计）人： | 内仓和一;服部雅幸;川桥信夫 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H01L21/302 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 苗堃;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供化学机械研磨用水系分散体及化学机械研磨方法、以及用于调制化学机械研磨用水系分散体的试剂盒。其中，所述化学机械研磨用水系分散体可以高效地分别研磨各种被研磨物，可以得到充分平坦化的高精度的加工面，而且即使超过最佳研磨时间而继续进行化学机械研磨，配线部分中的凹陷或磨耗也不会恶化。所述化学机械研磨用水系分散体含有(A)磨料、(B)有机酸、(C)苯并三唑或者其衍生物、(D)聚(甲基)丙烯酸盐、(E)氧化剂及(F)水，所述(A)磨料的配合量为2～10质量％。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 水系 散体 方法 调制 试剂盒 | ||
【主权项】：
1、化学机械研磨用水系分散体，其中，含有(A)磨料、(B)有机酸、(C)苯并三唑或者其衍生物、(D)聚(甲基)丙烯酸盐、(E)氧化剂及(F)水，所述(A)磨料的配合量为2～10质量％。
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