[发明专利]一种对粉体表面进行镀膜的工艺及其设备有效
| 申请号： | 200610060920.8 | 申请日： | 2006-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN101082120A | 公开（公告）日： | 2007-12-05 |
| 发明（设计）人： | 颜海鹏;焦天宇 | 申请（专利权）人： | 比亚迪股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/34 |
| 代理公司： | 深圳市港湾知识产权代理有限公司 | 代理人： | 胡亚宏 |
| 地址： | 518119广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种对粉体表面进行镀膜的工艺，主要包括：提供有真空环境的工作室；让粉体在真空环境中下落，在下落过程中，采用真空镀膜发生源对粉体表面实施镀覆，尤其是粉体在上述真空环境中的下落过程中作螺旋运动，并使粉体表面形成相对均匀的覆层；以及关于一种用于这种工艺的设备，主要包括真空室、真空镀膜发生源、真空抽气系统，其中该真空室内安装有一个倒锥型或类倒锥型可旋转的料斗，该料斗上端与进料室连通，而相对的下端与收料室连通，真空镀膜发生源安装该料斗内的中部，工作室内壁上固定有用来驱动料斗旋转的且具有调速功能电机。这种工艺及其设备的单次处理量大、运行成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 体表 进行 镀膜 工艺 及其 设备 | ||
【主权项】：
1.一种对粉体表面进行镀膜的工艺，主要包括：提供有真空环境的工作室；让粉体在真空环境中下落，在下落过程中，采用真空镀膜发生源对粉体表面实施镀覆，其特征在于：粉体在上述真空环境中的下落的过程中作螺旋运动，使粉体表面形成相对均匀的覆层。
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