[发明专利]具有横梁结构的器件和半导体器件无效
申请号: | 200610063988.1 | 申请日: | 2006-12-20 |
公开(公告)号: | CN1986384A | 公开(公告)日: | 2007-06-27 |
发明(设计)人: | 池桥民雄 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | B81B3/00 | 分类号: | B81B3/00;H01L41/09 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种具有横梁结构的器件包括衬底、分别设置在该衬底上面和之上的锚定件和空腔、以及横梁结构,该横梁结构设置在锚定件上面和空腔之上,在第一方向上延伸,并且包括多个凸起部分和多个凹进部分,每个凸起部分具有提供凸起弯曲这样的应力梯度,而每个凹进部分具有提供凹进弯曲这样的应力梯度。凸起部分和凹进部分交替重复布置。 | ||
搜索关键词: | 具有 横梁 结构 器件 半导体器件 | ||
【主权项】:
1、一种具有横梁结构的器件,包括:衬底;分别设置在该衬底上面和之上的锚定件和空腔;以及横梁结构,其设置在该锚定件的上面和该空腔之上,在第一方向上延伸,并且包括多个凸起部分和多个凹进部分,每个所述凸起部分具有提供凸起弯曲这样的应力梯度,而每个所述凹进部分具有提供凹进弯曲这样的应力梯度,其中所述凸起部分和所述凹进部分交替重复地布置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610063988.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:气顶式太空电梯
- 下一篇:保证移动台和基站之间通讯安全的方法