[发明专利]用于多次曝光过程的基于模型的几何分解方法及相应产品有效
| 申请号： | 200610064227.8 | 申请日： | 2006-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN101008788A | 公开（公告）日： | 2007-08-01 |
| 发明（设计）人： | R·J·索查 | 申请（专利权）人： | ASML蒙片工具有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F17/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘春元;陈景峻 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 用于多次曝光过程的基于模型的几何分解方法及相应产品。一种分解目标图案的方法，目标图案具有要在基底上被成像的特征，以便允许所述特征在多次曝光过程中被成像。所述方法包括以下步骤：(a)将多个特征分割为多个多边形；(b)为多个多边形中的每个确定图像对数斜率(ILS)值；(c)确定具有最小ILS值的多边形，并定义包含该多边形的掩模；(d)将在步骤(c)中所定义的掩模与透射交叉系数的特征函数进行卷积，以便生成干涉图，其中所述透射交叉系数定义要被用来对目标图案进行成像的照明系统；和(e)基于对应于所述多边形的位置处的干涉图的值，为所述多边形分配相位，其中该相位定义了给所述多边形分配所述多次曝光过程中的哪次曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 多次 曝光 过程 基于 模型 几何 分解 方法 相应 产品 | ||
【主权项】：
1、一种分解目标图案的方法，该目标图案具有要在基底上被成像的特征，以便允许所述特征在多次曝光过程中被成像，所述方法包括以下步骤：(a)将多个所述特征分割为多个多边形；(b)针对所述多个多边形中的每个确定图像对数斜率(ILS)值；(c)确定具有最小ILS值的多边形，并定义包含所述多边形的掩模；(d)将在步骤(c)中所定义的所述掩模与透射交叉系数的特征函数进行卷积，以便生成第一干涉图，所述透射交叉系数定义照明系统；和(e)基于分别对应于所述多边形的位置处的第一干涉图的值，为所述多边形分配相位，所述相位定义了给所述多边形分配所述多次曝光过程中的哪次曝光。
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