[发明专利]光学元件、曝光设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 200610071568.8 | 申请日： | 2006-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN1841209A | 公开（公告）日： | 2006-10-04 |
| 发明（设计）人： | 山本纯正 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李春晖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本申请涉及光学元件、曝光设备和器件制造方法。具体地，涉及一种用于具有投影光学系统的曝光设备的光学元件，该投影光学系统被构成为：将被来自光源的极远紫外光照射的原版的图案投影到基片上，使该基片在通过该原版和投影光学系统的光下曝光，所述光学元件用于设置在相对于原版位于光源一侧的第一光路和相对于原版位于基片一侧的第二光路中的一个光路中，该元件包括：薄膜，被构成为透射极远紫外光；以及遮蔽件，它设置在所述薄膜上，并且被构成为遮蔽部分薄膜免受所述极远紫外光照射。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 曝光 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于具有投影光学系统的曝光设备的光学元件，该投影光学系统被构成为：将被来自光源的极远紫外光照射的原版的图案投影到基片上，使该基片在通过该原版和投影光学系统的光下曝光，所述光学元件用于设置在相对于原版位于光源一侧的第一光路和相对于原版位于基片一侧的第二光路中的一个光路中，该元件包括：薄膜，被构成为透射极远紫外光；以及遮蔽件，它设置在所述薄膜上，并且被构成为遮蔽部分薄膜免受所述极远紫外光照射。
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