[发明专利]显影剂支持体、显影剂支持体的制造方法、显影装置和成像装置有效
| 申请号： | 200610072198.X | 申请日： | 2006-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN101059668A | 公开（公告）日： | 2007-10-24 |
| 发明（设计）人： | 安藤雅宏;野田明彦;尾崎善史;大场正太 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G9/10 | 分类号： | G03G9/10;G03G15/08;G03G15/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种显影剂支持体，该显影剂支持体在经过粗糙化处理的中空圆筒状基体上具有由金属构成的表面层，其中，该表面层的60°镜面光泽度Gs(60°)在约10～40光泽度单位的范围内，本发明还提供了具有该显影剂支持体的显影装置和成像装置，以及制造所述显影剂支持体的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 显影剂 支持 制造 方法 显影 装置 成像 | ||
【主权项】：
1.一种显影剂支持体，该显影剂支持体在经过粗糙化处理的中空圆筒状基体上具有由金属构成的表面层，其中，所述表面层的60°镜面光泽度Gs(60°)在约10～40光泽度单位的范围内。
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