[发明专利]用于光学临近修正的方法和系统有效
| 申请号： | 200610073023.0 | 申请日： | 2006-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN1869819A | 公开（公告）日： | 2006-11-29 |
| 发明（设计）人： | 马哈拉·马克赫吉;斯科特·M·曼斯菲尔德;艾伦·E·罗森布拉特;卡费·莱 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;G06F17/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 酆迅 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了用于执行光学临近修正(OPC)的方法、程序产品和系统，其中基于邻近形状对需要分段的形状的成像过程的有效影响，对掩模形状进行分段。在确定邻近形状对感兴趣的形状的分段的影响之前，对邻近形状进行平滑，其中邻近形状的平滑量随着邻近形状对感兴趣的形状的成像过程影响的减小而增加。优选的实施方式包括在感兴趣的形状周围使用多个相互作用区域(ROI)，并为给定的相互作用区域分配平滑参数，该参数随着相互作用区域内的形状对需要分段的形状的影响的减小而增加。本发明提供了精确而有效的光学临近修正。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 临近 修正 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于执行光学临近修正(OPC)的方法，包括以下步骤：识别具有需要分段的边的感兴趣的图形；识别一个或多个不同于所述感兴趣的图形的有影响的图形；平滑所述一个或多个有影响的图形，以形成有平滑的边的平滑的有影响的图形，其中所述一个或多个有影响的图形的平滑的量，根据所述有影响的图形对所述感兴趣的图形的成像过程的影响而变化；根据所述平滑的有影响的图形的平滑的边，限定所述感兴趣的图形的边的分段；以及执行所述感兴趣的图形的OPC，其中所述OPC包括调整所述感兴趣的图形的边的所述分段。
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