[发明专利]曝光方法和网目调型移相掩模

摘要

提供对曝光对象面进行曝光用的方法和在该方法中被使用的网目调型移相掩模。网目调型移相掩模具有容许从光源发射的光通过的基准区域和容许上述光的一部分通过的振幅相位调制区域。网目调型移相掩模的振幅相位调制区域对于基准区域的相位调制量是{360°×n+(182°～203°)}(n是整数)。

主权项

1.一种使用具有容许从光源发射的光通过的基准区域和容许上述光的一部分通过的振幅相位调制区域的网目调型移相掩模对曝光对象面进行曝光的方法，其特征在于：上述网目调型移相掩模的振幅相位调制区域中的下述式的φ的值比上述基准区域中的下述式的φ的值大182°～203°，φ＝φ1-φ2$\phi 1=360\mathrm{deg}\times \underset{i}{\Sigma }{n}_i\times t_i/\lambda$ 其中，i：各区域中存在的相位调制层的编号，ni：各区域中存在的第i相位调制层的折射率，ti：各区域中存在的第i相位调制层的厚度，λ：光的波长，$\phi 2=\underset{i}{\Sigma }\arg \{2(n_i-i{k}_i)/(n_i+n_{i+1}-i(k_i+k_{i+1}))\}$ 其中，i：规定各区域中存在的界面的层的编号，ni：规定各区域中存在的界面的第i层的折射率，ki：规定各区域中存在的界面的第i层的衰减系数。