[发明专利]配备有像差校正装置的粒子光学器具有效

专利信息
申请号: 200610074091.9 申请日: 2006-04-04
公开(公告)号: CN1847913A 公开(公告)日: 2006-10-18
发明(设计)人: A·亨斯特拉 申请(专利权)人: FEI公司
主分类号: G02B21/02 分类号: G02B21/02;G02B7/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 程天正;张志醒
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 在TEM、STEM、或SEM中应用的四极-八极校正器。用于校正物镜的三阶与五阶像差的已知的校正器用八个四极和三个八极来实现。按照本发明的校正器具有至少相同的像差校正能力,但按照本发明的校正器是用六个四极和三个八极实现的。通过把具有相对较弱的激励的八极添加到一部分四极,还可得到对物镜的各向异性的慧形像差的校正。通过把所有的四极或四极的一部分实施为电磁的,还可以校正色度像差。
搜索关键词: 配备 有像差 校正 装置 粒子 光学 器具
【主权项】:
1.一种配备有物镜(14)和配备有用于校正该物镜的透镜误差的像差校正装置(22)的粒子光学器具,该像差校正装置包括:-第一组光学单元,接连地包含第一(Q1)、第二(Q2)和第三四极透镜(Q3)和第一八极(O1);-第二组光学单元,接连地包含第二八极(O2)和第四(Q4)、第五(Q5)和第六四极透镜(Q6);以及-至少一个第三八极(O3),被放置在两组光学单元的外面,-由此第一(O1)和第二八极(O2)与第三(Q3)和第四(Q4)四极透镜被放置在一方面第一(Q1)和第二(Q2)四极与另一方面第五(Q5)和第六(Q6)四极之间,其中四极透镜以这样的方式确定带电粒子在像差校正装置中的路径,使得八极互相在其上成像。其特征在于,-在第一轴平面(x-z平面)上,第一(O1)和第二(O2)八极不互相在其上成像,而第二(O2)和第三(O3)八极互相在其上成像;-在垂直于第一轴平面的第二轴平面(y-z平面)上,第一(O1)和第二(O2)八极不互相在其上成像,而第一(O1)和第三(O3)八极互相在其上成像;以及-在第一轴平面(x-z平面)上的轴光束(2)通过第一(O1)八极的轴点传送,和在第二轴平面(y-z平面)上的轴光束通过第二(O2)八极的轴点传送,-结果,物镜的三阶透镜误差得到校正,并且物镜的五阶透镜误差至少被最小化。
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