[发明专利]薄膜晶体管及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610075717.8 申请日: 2006-04-18
公开(公告)号: CN101060137A 公开(公告)日: 2007-10-24
发明(设计)人: 邱羡坤;官永佳;孙国升 申请(专利权)人: 中华映管股份有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/336
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 陈亮
地址: 台湾省台北*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种薄膜晶体管,其包括基板、底部层、铜栅极、栅绝缘层、沟道层与源极/漏极。底部层设置在基板上。铜栅极设置在底部层上。栅绝缘层覆盖铜栅极与底部层。沟道层设置在栅绝缘层上,并位于铜栅极上方。源极/漏极设置在铜栅极上方的沟道层的两侧。本发明的薄膜晶体管通过底部层的设置,而解决铜栅极与基板之间附着力不佳的问题。
搜索关键词: 薄膜晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,其特征是包括:基板;底部层,设置在该基板上;铜栅极,设置在该底部层上;栅绝缘层,覆盖该铜栅极与该底部层;沟道层,设置在该栅绝缘层上,并位于该铜栅极上方;以及源极/漏极,设置在该铜栅极上方的该沟道层的两侧。
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