[发明专利]薄膜晶体管及其制造方法无效
申请号: | 200610075717.8 | 申请日: | 2006-04-18 |
公开(公告)号: | CN101060137A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
发明(设计)人: | 邱羡坤;官永佳;孙国升 | 申请(专利权)人: | 中华映管股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/336 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 陈亮 |
地址: | 台湾省台北*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种薄膜晶体管,其包括基板、底部层、铜栅极、栅绝缘层、沟道层与源极/漏极。底部层设置在基板上。铜栅极设置在底部层上。栅绝缘层覆盖铜栅极与底部层。沟道层设置在栅绝缘层上,并位于铜栅极上方。源极/漏极设置在铜栅极上方的沟道层的两侧。本发明的薄膜晶体管通过底部层的设置,而解决铜栅极与基板之间附着力不佳的问题。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,其特征是包括:基板;底部层,设置在该基板上;铜栅极,设置在该底部层上;栅绝缘层,覆盖该铜栅极与该底部层;沟道层,设置在该栅绝缘层上,并位于该铜栅极上方;以及源极/漏极,设置在该铜栅极上方的该沟道层的两侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中华映管股份有限公司,未经中华映管股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610075717.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种心内膜射频消融探头
- 下一篇:一种拆卸工具
- 同类专利
- 专利分类