[发明专利]画素结构及其修补方法

摘要

一种画素结构，此种画素结构包括一扫描线、一闸极、一第一介电层、一通道层、一源极、一汲极、一资料线、一第二介电层以及一画素电极。其中，闸极与扫描线电性连接且具有一第一凹口。第一介电层覆盖扫描线与闸极。通道层配置于闸极上方的第一介电层上，且此通道层暴露出第一凹口。源极与汲极配置在通道层上，其中部分汲极位于第一凹口上方。资料线配置在第一介电层上且与源极电性连接。第二介电层覆盖源极、汲极与资料线。画素电极配置于第二介电层上且与汲极电性连接。

主权项

1、一种画素结构，其特征在于其包括：一扫描线；一闸极，与该扫描线电性连接，且该闸极具有一第一凹口；一第一介电层，覆盖该扫描线与该闸极；一通道层，配置于该闸极上方的该第一介电层上，且该通道层暴露出该第一凹口；一源极与一汲极，配置在该通道层上，其中部分该汲极位于该第一凹口上方；一资料线，配置在该第一介电层上，且与该源极电性连接；一第二介电层，覆盖该源极、该汲极与该资料线；以及一画素电极，配置于该第二介电层上，且与该汲极电性连接。