[发明专利]使用超像素形式的倾斜镜面的光构图装置无效
| 申请号： | 200610077147.6 | 申请日： | 2006-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN1869820A | 公开（公告）日： | 2006-11-29 |
| 发明（设计）人： | N·巴巴－阿李;A·J·B·布利克;K·Z·特卢斯特 | 申请（专利权）人： | ASML控股有限公司;ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王庆海;张志醒 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光构图系统包括提供具有一定波长(λ)的辐射束的照明系统。反射像素阵列构图该束，其中阵列包括像素，该像素至少具有逻辑耦合到第二倾斜镜面的第一倾斜镜面。在实施例中，第一和第二倾斜镜面(i)基本上彼此相邻；且(ii)在高度上彼此偏移第一镜面位移。包括将构图束投射到目标上的投影系统。在可选实施例中，反射像素阵列包括具有彼此逻辑耦合的第一到第四倾斜镜面的像素。第一到第四倾斜镜面(i)分别在高度上与参考平面偏移第一到第四镜面位移，且(ii)分别顺时针排列在基本正方形的图形中。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 像素 形式 倾斜 构图 装置 | ||
【主权项】：
1、一种光构图系统，包括：用于提供具有一定波长(λ)的辐射束的照明系统；用于构图所述束的单独可控元件阵列，其中所述阵列包括超像素，该超像素至少具有逻辑耦合到第二倾斜镜面的第一倾斜镜面，并且其中所述第一和第二倾斜镜面(i)基本上彼此相邻，且(ii)在高度上彼此偏移第一镜面位移，以及用于将所述构图束投射到目标上的投影系统。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML控股有限公司;ASML荷兰有限公司，未经ASML控股有限公司;ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610077147.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种灵芝草茶啡及其制作方法
- 下一篇：高填充比的联锁模块
