[发明专利]衬底处理装置

摘要

在从分度器模块向外传递待处理的衬底之前进行模式选择。当选择“处理顺序优先模式”时，在向外传递衬底之前确定衬底的传送路径。通过确定衬底将被传送到用于进行每个并行处理的多个并行处理部中的哪一个，来进行传送路径的确定。然后，基于所确定的传送路径，调整为该传送路径中包含的每个衬底处理部所设定的处理条件。此后，从分度器模块向外传递未处理的衬底，并沿着所确定的传送路径来传送和处理该衬底。另一方面，当选择“产量优先模式”时，衬底被传送到所述多个并行处理部中空闲的一个。

主权项

1、一种衬底处理装置，用于在衬底上进行抗蚀涂覆处理以将该衬底传递到所述装置外部的曝光单元，并用于在从该曝光单元返回的曝光后的衬底上进行显影处理，所述衬底处理装置包括：衬底处理部组，具有用于处理衬底的多个衬底处理部，所述多个衬底处理部包括用于在相同处理步骤中以相同条件进行处理的多个并行处理部；分度器部，用于将未处理的衬底传递到所述衬底处理部组，并用于从所述衬底处理部组接收处理后的衬底；传送元件，用于将衬底传送到所述分度器部以及传送到所述多个衬底处理部；传送路径确定元件，用于确定未处理的衬底将被传送到所述多个并行处理部中的哪一个，从而在该未处理的衬底从所述分度器部传递到所述衬底处理部组之前，预先确定该未处理的衬底的传送路径；以及处理条件控制元件，用于基于由所述传送路径确定元件确定的传送路径，调整为所述多个衬底处理部中的至少一个衬底处理部所设定的处理条件，所述至少一个衬底处理部包含于该传送路径中并且在曝光处理之前的步骤中进行处理。