[发明专利]制造薄膜图案层的方法无效
| 申请号： | 200610080401.8 | 申请日： | 2006-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN101071273A | 公开（公告）日： | 2007-11-14 |
| 发明（设计）人： | 周景瑜 | 申请（专利权）人： | 虹创科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/16;G03F7/26;G02B5/23 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周春发 |
| 地址： | 台湾省新竹科学工业园*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制造薄膜图案层的方法，其包括以下步骤：提供一基板，并采用光阻材料以光阻涂布、曝光、显影方式形成若干挡墙，该若干挡墙间形成若干收容空间；利用等离子装置清洗该基板表面；利用喷墨装置将墨水注入该若干收容空间中；固化该墨水形成薄膜图案层。该方法利用等离子装置清洗该基板表面这一过程，能够去除残留在相邻挡墙之间的光阻，通过喷墨法将墨水注入该挡墙之间，因为没有残留光阻的存在，故，墨水在该处附着较佳，不易形成漏光。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 薄膜 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造薄膜图案层的方法，其包括以下步骤：提供一基板，并采用光阻材料以光阻涂布、曝光、显影方式在基板上形成若干挡墙，该若干挡墙间形成若干收容空间；利用等离子装置清洗该基板表面；利用喷墨装置将墨水注入该若干收容空间中；固化该墨水形成薄膜图案层。
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