[发明专利]半导体发光元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200610081823.7 申请日: 2006-05-12
公开(公告)号: CN101071831A 公开(公告)日: 2007-11-14
发明(设计)人: 李亚儒;徐大正;金明达;陈彦文;骆武聪;李仲渊;谢明勋 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种半导体发光元件,其包括半导体基板及设置于其上的多层外延结构。半导体基板具有垂直半导体基板的上表面的既定晶格方向,使半导体基板的上表面具有至少两种晶面,其中既定晶格方向包含自[100]朝向[011]或[011]、或自[100]朝向[011]或[011]倾斜的角度。多层外延结构设置于半导体基板上,具有与多层外延结构的上表面垂直的该既定晶格方向,其中多层外延结构的上表面为粗化表面。
搜索关键词: 半导体 发光 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体发光元件,包括:半导体基板,具有上表面,且具有垂直于该上表面的既定晶格方向,其中该既定晶格方向包含自[100]朝向、[100]朝向、朝向[011]、或朝向倾斜的角度,使该上表面包含至少二晶面,且此二晶面的晶面方向不同;以及多层外延结构,设置于该半导体基板上,其中该多层外延结构具有上表面,该上表面为粗化表面且与该既定晶格方向垂直。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶元光电股份有限公司,未经晶元光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610081823.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top