[发明专利]半导体发光元件及其制造方法有效
申请号: | 200610081823.7 | 申请日: | 2006-05-12 |
公开(公告)号: | CN101071831A | 公开(公告)日: | 2007-11-14 |
发明(设计)人: | 李亚儒;徐大正;金明达;陈彦文;骆武聪;李仲渊;谢明勋 | 申请(专利权)人: | 晶元光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种半导体发光元件,其包括半导体基板及设置于其上的多层外延结构。半导体基板具有垂直半导体基板的上表面的既定晶格方向,使半导体基板的上表面具有至少两种晶面,其中既定晶格方向包含自[100]朝向[011]或[011]、或自[100]朝向[011]或[011]倾斜的角度。多层外延结构设置于半导体基板上,具有与多层外延结构的上表面垂直的该既定晶格方向,其中多层外延结构的上表面为粗化表面。 | ||
搜索关键词: | 半导体 发光 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体发光元件,包括:半导体基板,具有上表面,且具有垂直于该上表面的既定晶格方向,其中该既定晶格方向包含自[100]朝向、[100]朝向、朝向[011]、或朝向倾斜的角度,使该上表面包含至少二晶面,且此二晶面的晶面方向不同;以及多层外延结构,设置于该半导体基板上,其中该多层外延结构具有上表面,该上表面为粗化表面且与该既定晶格方向垂直。
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