[发明专利]凹凸图案形成方法、母盘、压模及磁记录介质的制造方法无效

专利信息
申请号: 200610088681.7 申请日: 2006-06-02
公开(公告)号: CN1873531A 公开(公告)日: 2006-12-06
发明(设计)人: 大川秀一;中田胜之;服部一博;高井充 申请(专利权)人: TDK股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;H01L21/027;G11B5/62
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 雷志刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够以高精度形成相当于伺服信息的、微细且复杂的凹凸图案的凹凸图案形成方法以及利用该方法的磁记录介质的制造方法。在该凹凸图案形成方法中,将形成在树脂层支承材料上的树脂层(52)加工成不正规凹凸图案,并基于该树脂层(52)而对记录层(树脂层支承材料)进行蚀刻,从而将该记录层加工成使上述不正规凹凸图案接近上述基本凹凸图案的凹凸图案,其中,上述不正规凹凸图案是,相对规定的基本凹凸图案,在该基本凹凸图案的部分凹部上形成分割用凸部(52A),而使该基本凹凸图案的至少一部分凹部分割了的凹凸图案。
搜索关键词: 凹凸 图案 形成 方法 母盘 记录 介质 制造
【主权项】:
1.一种凹凸图案形成方法,其特征在于,包括:不正规凹凸图案形成工序,将形成在树脂层支承材料上的树脂层加工成不正规凹凸图案,该不正规凹凸图案是相对于规定的基本凹凸图案,在该基本凹凸图案的凹部的一部分上形成有分割用凸部而使该基本凹凸图案的凹部的至少一部分被分割;树脂层支承材料蚀刻工序,基于该树脂层对上述树脂层支承材料进行蚀刻,从而将该树脂层支承材料加工成使上述不正规凹凸图案接近于上述基本凹凸图案的形状的凹凸图案。
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