[发明专利]控制金属栅极叠层中平带/阈值电压的方法及其结构有效
申请号: | 200610093844.0 | 申请日: | 2006-06-20 |
公开(公告)号: | CN1885560A | 公开(公告)日: | 2006-12-27 |
发明(设计)人: | 雷贾拉奥·詹米;斯蒂芬·L·布朗;维杰伊·纳拉亚南;瓦姆西·K·帕鲁丘里;陈自强 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/51;H01L21/336;H01L21/28;H01L21/314 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李晓舒;魏晓刚 |
地址: | 美国纽*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供一种金属叠层(或栅极叠层)结构,其使材料叠层的平带电压和阈值电压稳定,该材料叠层包括栅极导体和具有大于大约4.0的介电常数的电介质材料、尤其是Hf基电介质。本发明通过把含碱土金属的层引入材料叠层中稳定了平带电压和阈值电压,其通过电负差把阈值电压偏移引向所需电压。具体地,本发明提供了一种材料叠层,包括:高k电介质,优选为铪基电介质;位于所述高k电介质顶部上或其内部的含碱土金属的层;位于所述高k电介质之上的导电盖帽层;以及栅极导体。 | ||
搜索关键词: | 控制 金属 栅极 中平 阈值 电压 方法 及其 结构 | ||
【主权项】:
1、一种材料叠层,包括:电介质材料,其具有大于大约4.0的介电常数;含碱土金属的材料,其位于所述电介质材料顶部上或其内部;导电盖帽层,其位于所述电介质材料之上;以及栅极导体。
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