[发明专利]流体喷射装置及其制造方法无效
| 申请号： | 200610094106.8 | 申请日： | 2006-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN101091937A | 公开（公告）日： | 2007-12-26 |
| 发明（设计）人： | 庄文宾;周忠诚 | 申请（专利权）人： | 明基电通股份有限公司 |
| 主分类号： | B05B1/00 | 分类号： | B05B1/00;B41J2/14;B41J2/16 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种流体喷射装置的制造方法。首先，在基底上形成第一感光型高分子层，以具有流体腔图案的光掩模为掩模，并以第一波长范围的光线对第一感光型高分子层进行曝光。其后，造曝光后的第一感光型高分子层上形成第二感光型高分子层，以具有喷孔图案的光掩模为掩模，并以第二波长范围的光线对第二感光型高分子层进行曝光，其中第一波长范围和第二波长范围大体上不互相干扰。接着，对第一感光型高分子层和第二感光型高分子层进行显影，以同时定义出流体腔和位于第二感光型高分子层中的喷孔。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 喷射 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种流体喷射装置的制造方法，包括：提供基底；在所述基底上形成图形化的高分子牺牲层；在所述基底上形成高分子结构层，且所述高分子结构层覆盖所述高分子牺牲层；图形化所述高分子结构层，以形成喷孔，并露出所述高分子牺牲层部分表面；及移除所述图形化的高分子牺牲层，以形成流体腔，其中所述图形化的高分子牺牲层和所述高分子结构层大体上不具有工艺兼容性问题。
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