[发明专利]微显示板表面平坦度改善方法、硅基液晶显示板及其制法无效
| 申请号： | 200610094590.4 | 申请日： | 2006-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN101093294A | 公开（公告）日： | 2007-12-26 |
| 发明（设计）人： | 吴沂庭 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133;G02F1/136;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种改善微显示面板表面平坦度的方法。其中，于半导体基底上依序形成一反射镜层及垫高层。垫高层可包括一缓冲层及一停止层。然后定义出多个像素单元区，且于像素单元区之间形成间隙。再于像素单元区上沉积一介电层，并且填满间隙。然后，部分移除介电层，使位于垫高层上的介电层及位于间隙内的介电层上部被移除，并使得间隙内的介电层高度不低于反射镜层的顶部。再将垫高层全部或部分移除。进一步将一透明导电层与半导体基底结合，进行一灌液晶工艺，使半导体基底与透明导电层的间隙充满一液晶，可形成硅基液晶显示面板。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 表面 平坦 改善 方法 液晶显示 及其 制法 | ||
【主权项】：
1.一种改善微显示面板表面平坦度的方法，包括：提供半导体基底；于该半导体基底上形成反射镜层；于该反射镜层上形成垫高层；将该垫高层及该反射镜层定义出多个像素单元区，而于该些像素单元区之间形成间隙；于该些像素单元区上沉积介电层，并且填满该些间隙；部分移除该介电层，使位于该垫高层上的介电层及位于该间隙的介电层上部被移除，并使得该间隙的介电层高度不低于该反射镜层的顶部；及移除部分或全部的该垫高层。
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