[发明专利]喷墨印头及其制造方法无效
申请号: | 200610099503.4 | 申请日: | 2006-07-26 |
公开(公告)号: | CN101112817A | 公开(公告)日: | 2008-01-30 |
发明(设计)人: | 蔡尚颖;李致淳;江逊旌 | 申请(专利权)人: | 国际联合科技股份有限公司 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14;B41J2/16 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提出一种喷墨印头,至少包括晶片、腔室层以及喷嘴层,其中晶片具有多数个致动器件,腔室层则配置于晶片之上,而喷嘴层是配置于腔室层之上。腔室层具有数个腔室。这些腔室位于致动器件上方,且腔室层的材料是一有机溶剂显影型的丙烯酸系负型光致抗蚀剂。此外,喷嘴层具有数个喷嘴,而这些喷嘴分别与上述腔室连通,且喷嘴层的材料为环氧基型或酰亚胺基型的负型光致抗蚀剂。 | ||
搜索关键词: | 喷墨 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种喷墨印头,其特征在于其至少包括:一晶片,具有多数个致动器件;一腔室层,配置于该晶片之上,其中:该腔室层具有多数个腔室,该些腔室位于该些致动器件上方;该腔室层的材料是一种有机溶剂显影型的丙烯酸系负型光致抗蚀剂;以及一喷嘴层,配置于该腔室层之上,其中:该喷嘴层具有多数个喷嘴,而该些喷嘴分别与该些腔室连通;该喷嘴层的材料包括环氧基型负型光致抗蚀剂或酰亚胺基型负型光致抗蚀剂。
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