[发明专利]光刻装置和利用清洁气体的移动来减少污染的器件制造方法有效
| 申请号： | 200610099674.7 | 申请日： | 2006-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1892434A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | B·A·J·鲁蒂克休斯;P·R·巴特雷;W·J·博西;M·K·斯塔芬加;T·哈林克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;黄力行 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻装置包括支撑基底的基底台和使基底相对基底台移动的基底搬运器。基底搬运器适合于在曝光之前和之后将基底装载到基底台上和从基底台上卸载基底。此外，清洁气体供给系统向布置有基底的至少一个位置提供清洁气体。清洁气体供给系统可移动地安装。利用所述光刻装置的器件制造方法可以用于制造平板显示器和集成电路器件中的至少一个。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 利用 清洁 气体 移动 减少 污染 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：支撑基底的基底台；使基底相对基底台移动的基底搬运器，所述基底搬运器适合于在曝光之前和之后将基底装载到基底台上和从基底台上卸载基底，以及向布置有基底的至少一个位置提供清洁气体的清洁气体供给系统，其中清洁气体供给系统可移动地安装。
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