[发明专利]形成配向膜的设备及方法无效
| 申请号： | 200610100980.8 | 申请日： | 2006-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN101118349A | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | 王君铭;罗宇城;李怀安;刘胜发 | 申请（专利权）人： | 中华映管股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 陈肖梅;谢丽娜 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种形成配向膜的设备及方法，此设备包括一反应室，而反应室包含一用以装盛一蒸镀源的坩埚，一用以支撑一基板且控制此基板一倾斜角度的支撑装置，一用以将蒸镀源变为气态并附着于基板的表面以形成一配向膜的发射源，一用以控制反应室内压力的压力控制装置，以及一位于上述蒸镀源与基板之间且具有一狭缝的遮板，上述具有狭缝的遮板于配向膜形成过程中，与基板形成一相对移动，以控制配向膜的膜厚均匀度。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成配向膜的设备，其特征在于，包括一反应室，该反应室包含：一坩锅，其中装盛一蒸镀源；一支撑装置，支撑一基板，并且控制该基板的法线与该蒸镀源来向呈一倾斜角度；一发射源，将该蒸镀源变为气态并附着于该基板的表面，以形成一配向膜；一压力控制装置，控制该反应室内的压力；以及一具有一狭缝的遮板，位于该蒸镀源与该基板之间，于该配向膜形成过程中，与该基板形成一相对移动，以控制该配向膜的膜厚均匀度。
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