[发明专利]用于蚀刻玻璃衬底的设备无效
| 申请号： | 200610112138.6 | 申请日： | 2006-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN1955132A | 公开（公告）日： | 2007-05-02 |
| 发明（设计）人： | 李起元;崔承珠;姜明元;成珖柱 | 申请（专利权）人： | 智圆技术株式会社 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 韩国425－100京畿道安山市*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种用于蚀刻玻璃衬底的设备包含用于容纳蚀刻溶液的容器和安置在容器中的至少两个滚筒。至少两个滚筒可彼此面对。玻璃衬底插入在至少两个滚筒之间，且在旋转至少两个滚筒的同时使用蚀刻溶液均一地蚀刻玻璃衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 玻璃 衬底 设备 | ||
【主权项】：
1、一种用于蚀刻玻璃衬底的设备，其特征在于其包括：容器，其用于容纳蚀刻溶液；以及至少两个滚筒，其安置在所述容器中，所述至少两个滚筒彼此面对，其中所述玻璃衬底插入在所述至少两个滚筒之间，且在旋转所述至少两个滚筒的同时使用所述蚀刻溶液蚀刻所述玻璃衬底。
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