[发明专利]电感耦合线圈及电感耦合等离子体装置有效
| 申请号： | 200610112658.7 | 申请日： | 2006-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN101136279A | 公开（公告）日： | 2008-03-05 |
| 发明（设计）人： | 宋巧丽;南建辉 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01F5/00 | 分类号： | H01F5/00;H01F38/14;H05H1/46;H05H1/50;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵镇勇;王连军 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电感耦合线圈及应用该电感耦合线圈的电感耦合等离子体装置，包括内部线圈和外部线圈，内部线圈与外部线圈相互独立且同轴线布置；内部线圈由多个结构相同的内部独立分支嵌套构成，多个内部独立分支相对轴线中心对称布置；外部线圈由多个结构相同的外部独立分支嵌套构成，多个外部独立分支相对轴线中心对称布置。电感耦合线圈设于电感耦合等离子体装置的反应室上部，并与射频电源连接。可以使工艺气体在反应腔室的晶片上方分布均匀，使晶片表面发生的化学反应速度差异较小，刻蚀速率均匀，提高刻蚀晶片的质量。主要用于半导体晶片加工设备，也适用于其它的设备。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 线圈 等离子体 装置 | ||
【主权项】：
1.一种电感耦合线圈，其特征在于，包括内部线圈和外部线圈，内部线圈与外部线圈相互独立且同轴线布置；所述内部线圈由多个结构相同的内独立分支嵌套构成，所述多个内独立分支相对轴线中心对称布置；所述外部线圈由多个结构相同的外独立分支嵌套构成，所述多个外独立分支相对轴线中心对称布置。
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