[发明专利]基板处理装置、涂敷装置及涂敷方法无效

专利信息
申请号: 200610115921.8 申请日: 2004-04-09
公开(公告)号: CN1939601A 公开(公告)日: 2007-04-04
发明(设计)人: 元村秀峰 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: B05C5/00 分类号: B05C5/00;G03F1/00;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 任默闻
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种不使用旋转机构,就可以使基板的被处理面朝向下方吸附在吸附板上的基板处理装置、涂敷装置及涂敷方法。该涂敷装置1a,利用基板处理单元2的毛细管现象使储存在基板10下方的涂敷液上升,使所上升的所述涂敷液接触朝向下方的基板10的被涂敷面,通过使基板处理单元2和基板10相对移动,在被涂敷面上形成涂敷膜,该涂敷装置具有:可以自由装卸地保持基板10的保持单元5a;在使基板10的被处理面朝向下方的状态下,从保持单元5a吸附基板10的吸附单元3;和使基板处理单元2和/或吸附单元3在水平面内移动的移动单元4。
搜索关键词: 处理 装置 方法
【主权项】:
1.一种光掩模坯料的制造方法,该制造方法包括如下工序:利用喷嘴的毛细管现象使涂敷液上升,使所上升的所述涂敷液接触朝向下方的基板的被涂敷面,通过使所述喷嘴和所述基板相对地移动,在所述被涂敷面上形成涂敷膜,该制造方法的特征在于,包括:使所述基板的被涂敷面朝向下方地将所述基板设置在保持单元上的步骤;在将所述基板的被涂敷面朝向下方的状态下,使所述保持单元和/或所述吸附单元相对地上下移动而接近的步骤;所述吸附单元吸附所述基板的步骤;使所述保持单元和/或所述吸附单元相对地上下移动而分离的步骤;以及使所述喷嘴和/或所述吸附单元在水平面内相对地移动,在所述基板的被涂敷面上形成涂敷膜的步骤。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于HOYA株式会社,未经HOYA株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610115921.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top