[发明专利]等离子体约束装置有效

专利信息
申请号: 200610116449.X 申请日: 2006-09-22
公开(公告)号: CN101150909A 公开(公告)日: 2008-03-26
发明(设计)人: 倪图强;陈金元;钱青;付越虹;徐朝阳;周旭升;王晔 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)有限公司
主分类号: H05H1/03 分类号: H05H1/03;H01J37/32;H01L21/00
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 王洁
地址: 201201上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种用于等离子体处理装置的等离子体约束装置,其设置于所述等离子体处理装置的处理区域和排气区域之间。所述等离子约束装置具有导电元件,所述导电元件形成有若干个通道,以便控制用过的反应气体及副产品气体的排出并且当其中的带电粒子通过时将它们电中和,从而将等离子体放电基本约束在处理区域以内。所述等离子体约束装置还包括电气接地元件,设置于所述导电元件下方并与所述导电元件相互电绝缘。本发明的等离子体约束装置能够有效减少等离子体处理装置处理区域外的不希望的等离子体的形成,从而解决等离子体处理装置腔体污染问题。
搜索关键词: 等离子体 约束 装置
【主权项】:
1.一种用于等离子体处理装置的等离子体约束装置,设置于所述等离子体处理装置的处理区域和排气区域之间,所述等离子约束装置包括:电气接地元件;及导电元件,所述导电元件位于所述电气接地元件上方,且二者相互电绝缘,所述导电元件设置有若干个通道,以利于所述处理区域里的用过的反应气体及副产品气体通过此通道,所述用过的反应气体及副产品气体内包括带电粒子及中性粒子,所述通道的大小被设置成当所述带电粒子通过所述通道时可以使带电粒子被中和,同时允许中性粒子通过。
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