[发明专利]一种可变发射率热控涂层及其镀制方法无效

专利信息
申请号: 200610116535.0 申请日: 2006-09-27
公开(公告)号: CN101152778A 公开(公告)日: 2008-04-02
发明(设计)人: 冯煜东;王艺;王志民;速小梅;赵慨 申请(专利权)人: 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所
主分类号: B32B33/00 分类号: B32B33/00;C23C14/34
代理公司: 上海蓝迪专利事务所 代理人: 徐筱梅
地址: 73003*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种可变发射率热控涂层及其镀制方法,特点是在物体基底表面依次镀制过渡层膜、金属高反射镀膜、过渡层膜、多层光学膜、相变膜、多层光学膜、防静电膜而形成的。本发明涂层具有相变温度区间窄,发射率变化率大,空间环境稳定性好,可广泛用于各类航天器的热控制;镀制方法具有沉积速率高、大面积厚度均匀性好、致密度好、光学常数稳定等优特点。
搜索关键词: 一种 可变 发射 率热控 涂层 及其 方法
【主权项】:
1.一种可变发射率热控涂层,其特征在于它是在物体表面依次镀制过渡层膜(1)、金属高反射镀膜(2)、过渡层膜(1)、多层光学膜(3)、相变膜(4)、多层光学膜(3)、防静电膜(5)而形成。
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