[发明专利]一种可变发射率热控涂层及其镀制方法无效
申请号: | 200610116535.0 | 申请日: | 2006-09-27 |
公开(公告)号: | CN101152778A | 公开(公告)日: | 2008-04-02 |
发明(设计)人: | 冯煜东;王艺;王志民;速小梅;赵慨 | 申请(专利权)人: | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 |
主分类号: | B32B33/00 | 分类号: | B32B33/00;C23C14/34 |
代理公司: | 上海蓝迪专利事务所 | 代理人: | 徐筱梅 |
地址: | 73003*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种可变发射率热控涂层及其镀制方法,特点是在物体基底表面依次镀制过渡层膜、金属高反射镀膜、过渡层膜、多层光学膜、相变膜、多层光学膜、防静电膜而形成的。本发明涂层具有相变温度区间窄,发射率变化率大,空间环境稳定性好,可广泛用于各类航天器的热控制;镀制方法具有沉积速率高、大面积厚度均匀性好、致密度好、光学常数稳定等优特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 可变 发射 率热控 涂层 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种可变发射率热控涂层,其特征在于它是在物体表面依次镀制过渡层膜(1)、金属高反射镀膜(2)、过渡层膜(1)、多层光学膜(3)、相变膜(4)、多层光学膜(3)、防静电膜(5)而形成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所,未经中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610116535.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。