[发明专利]移相光栅标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法有效
| 申请号： | 200610116544.X | 申请日： | 2006-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN1928721A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | 马明英;王向朝;王帆 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种移相光栅标记，其包括密集线条标记，该移相光栅标记形成在光刻机系统的掩模上，所述移相光栅标记还包括线宽较小的精细型线条标记。本发明还提供一种利用移相光栅标记检测光刻机成像质量的方法，包括将掩模上的移相光栅标记通过光刻机系统曝光到基板上；所述的方法还包括如下步骤：检测曝光到基板上的移相光栅标记的成像位置偏移量；利用成像位置偏移量计算光刻机的垂轴成像质量参数。与现有技术相比，由于精细型线条标记线宽较小，使移相光栅标记的成像位置偏移量受投影物镜彗差影响更加明显。本发明克服了光刻机垂轴成像质量参数检测不全面的缺点，简化了光刻机垂轴成像质量的检测过程。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 标记 利用 检测 光刻 成像 质量 方法 | ||
【主权项】：
1、一种移相光栅标记，其包括密集线条标记，该移相光栅标记形成在光刻机系统的掩模上，其特征在于：所述移相光栅标记还包括线宽较小的精细型线条标记。
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