[发明专利]硅基液晶显示装置反射镜面的制作方法有效
| 申请号： | 200610116885.7 | 申请日： | 2006-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN101153969A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 蒲贤勇;傅静 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133;G03F7/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种硅基液晶显示装置反射镜面的制作方法：在金属层上形成氧化铝层；在氧化铝层上沉积硅氧化物层；在硅氧化物层表面沉积抗反射层；在抗反射层上形成图案化光阻层；以光阻层为掩膜，蚀刻穿透抗反射层、硅氧化物层、氧化铅层以及金属层，露出硅基底；去除光阻层和抗反射层；在沟槽内及硅氧化物层表面沉积绝缘介质层；平坦化绝缘介质层；去除金属层上的绝缘介质层、硅氧化物层及氧化铝层，形成反射镜面。由于在金属层表面加上氧化铝层和硅氧化物层，用碱性溶液去除光阻层和抗反射层时，由于氧化铝层和硅氧化物层对金属层保护，使金属层不发生电化学反应，在反射镜面不会产生凹陷，反射镜面的质量得到提高。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶 显示装置 反射 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种硅基液晶显示装置反射镜面的制作方法：首先提供包含金属层的硅基液晶背板，所述金属层位于硅基底上，其特征在于，还包括下列步骤：在金属层上形成氧化铝层；在氧化铝层表面沉积抗反射层；在抗反射层上形成图案化光阻层；以光阻层为掩膜，蚀刻穿透抗反射层、氧化铝层以及金属层，露出硅基底；去除光阻层和抗反射层；在沟槽内及氧化铝层表面沉积绝缘介质层；平坦化绝缘介质层；去除金属层上的绝缘介质层及氧化铝层，形成反射镜面。
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