[发明专利]减少因镜头慧差导致成像畸变的方法有效
| 申请号： | 200610117731.X | 申请日： | 2006-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN101174092A | 公开（公告）日： | 2008-05-07 |
| 发明（设计）人： | 吴鹏;伍强 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 顾继光 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种减少因镜头慧差导致成像畸变的方法，它可以实时监控成像畸变，并通过反馈系统及时调整，提高了光刻机的使用效率，同时提升了光刻机精度的可靠性。它包括，第一步，在光刻机进行套刻之前，选取掩膜板和硅片平面的相同位置通过透镜成像系统分别成像到透镜成像系统的焦平面空间像收集探测器阵列上；第二步，根据两组成像的空间位置差异计算出透镜成像畸变；第三步，根据计算得出的成像畸变参数通过反馈系统对透镜成像系统的环境参数进行调整。 | ||
| 搜索关键词： | 减少 镜头 导致 成像 畸变 方法 | ||
【主权项】：
1.一种减少因镜头慧差导致成像畸变的方法，其特征在于，第一步，在光刻机进行套刻之前，选取掩膜板和硅片平面的相同位置通过透镜成像系统分别成像到透镜成像系统的焦平面空间像收集探测器阵列上；第二步，根据两组成像的空间位置差异计算出透镜成像畸变；第三步，根据计算得出的成像畸变参数通过反馈系统对透镜成像系统的环境参数进行调整。
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