[发明专利]一种电感耦合溅射制备稳定空穴型氧化锌薄膜的方法无效
| 申请号： | 200610119424.5 | 申请日： | 2006-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN101135044A | 公开（公告）日： | 2008-03-05 |
| 发明（设计）人： | 张华伟;施尔畏;陈之战 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08;C23C14/54;C23C14/58 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 20005*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电感耦合溅射制备稳定空穴型氧化锌薄膜的方法，属于半导体材料制备领域。本发明是利用电磁场约束电感耦合增强气相沉积系统，以氧化锌为溅射靶材，在工作气体氩气中通入氮气作为反应气，使溅射射频功率为100～300W，电感耦合射频源功率于30～50W间，衬底温度400～500℃，氩气流量与氮气流量的比在5∶1～1∶1范围内，进行溅射镀膜，获得氮掺杂氧化锌薄膜，再将该薄膜在氮气氛围下快速退火，退火温度400～550℃，退火时间为5～10分钟，获得稳定的p型氧化锌薄膜。本发明方法技术含量高，可获得高质量稳定的p型氧化锌薄膜，且可实现载流子浓度控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电感 耦合 溅射 制备 稳定 空穴 氧化锌 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电感耦合溅射制备稳定空穴型氧化锌薄膜的方法，包括下述步骤：(1)以致密的高纯氧化锌作为靶材；(2)清洗衬底，除去表面的油脂和污物；(3)将靶材和衬底分别放入溅射室特定位置，抽真空并加热衬底并使其恒温在400～500℃间某个值，通入工作气体氩气和氮气；(4)开启溅射射频电源，调节其功率为100～300W，开启电感耦合射频源，使其功率处于30～50W，打开衬底挡板开始镀膜；(5)镀膜完毕，从溅射室取出薄膜进行快速退火，获得稳定的p型氧化锌薄膜。
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