[发明专利]有机半导体元件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610121671.9 申请日: 2006-08-28
公开(公告)号: CN101136454A 公开(公告)日: 2008-03-05
发明(设计)人: 黄良莹;林宗贤;郑翔远;胡堂祥 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01L51/40 分类号: H01L51/40;H01L51/05
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种有机半导体元件的制造方法,此方法是在基底上依序形成栅极导体层与栅介电层。然后,在栅极导体层两侧的栅介电层上分别形成图案化金属层,接着,在各个图案化金属层的上表面以及相邻的侧壁上分别形成一电极改质层,其与所覆盖的图案化金属层构成一源极/漏极。之后,在二源极/漏极之间及其上方形成一有机半导体层,以做为一有源层。
搜索关键词: 有机半导体 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种有机半导体元件的制造方法,包括:在基底上形成栅极导体层;在该基底与该栅极导体层上形成栅介电层;在该栅极导体层两侧的该栅介电层上分别形成图案化金属层;于各该图案化金属层的上表面以及相邻的侧壁上分别形成电极改质层,各该图案化金属层与其上所覆盖的该电极改质层做为源极/漏极;以及在该源极/漏极之间及其上方形成有机半导体层,以做为有源层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610121671.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top