[发明专利]利用纳米压印的微细图案形成方法有效
| 申请号： | 200610121809.5 | 申请日： | 2006-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN101085580A | 公开（公告）日： | 2007-12-12 |
| 发明（设计）人： | 朴正扜;崔炯佶;赵成训;金光秀;金桢吉;李锡原;李文九 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | B41M5/26 | 分类号： | B41M5/26;B41M1/24 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郭鸿禧;李友佳 |
| 地址： | 韩国京畿道水*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种利用纳米压印以简单的工艺形成同时具有亲水性和疏水性的微细图案的方法。本发明利用刻着具有疏水性的微细结构物的模具在亲水性抗蚀涂层的表面转印所述模具的微细结构物。转印所述微细结构物包含步骤：使所述模具的微细结构物接触所述亲水性抗蚀涂层并施加预定压力；通过加热或照射紫外线使所述亲水性抗蚀涂层硬化之后将所述模具移开。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 纳米 压印 微细 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1、一种利用纳米压印形成微细图案的方法，其特征在于包含步骤：在模具上形成整个表面区域中至少有部分区域具有疏水性的微细结构物；在基片上涂敷膜；使所述模具的微细结构物接触所述膜并施加预定压力；在使所述膜硬化之后移开所述模具。
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