[发明专利]形成金属凸块的方法有效

专利信息
申请号: 200610126107.6 申请日: 2006-08-22
公开(公告)号: CN101131948A 公开(公告)日: 2008-02-27
发明(设计)人: 王圣民;张硕训;张国华;黄吉志;陈志澄 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所 代理人: 翟羽;刘志华
地址: 台湾省高雄市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明关于提供一种形成金属凸块的方法,包括以下步骤:提供一个具有数个导电焊垫的基板;在基板上形成防焊层,且该防焊层具有第一开口以露出导电焊垫;在防焊层上形成光阻层,且该光阻层具有第二开口以露出导电焊垫;在光阻层上形成导电层,且该导电层覆盖该第二开口的侧壁、该第一开口的侧壁以及导电焊垫;在导电层上电镀金属层,且该金属层填满第一开口与第二开口;进行平坦化,以去除光阻层上的导电层以及金属层,只留下位于第一开口与第二开口中的导电层以及金属层;移除光阻层并进行回焊,以形成金属凸块。
搜索关键词: 形成 金属 方法
【主权项】:
1.一种形成金属凸块之方法,包含:提供一基板,其上设有数个导电焊垫;在该基板上形成一个图案化的防焊层,该防焊层具有数个第一开口以露出该等导电焊垫;在该防焊层上形成一图案化的光阻层,该光阻层具有数个第二开口以露出该等导电焊垫;在该光阻层上形成一导电层,该导电层覆盖该光阻层之该等第二开口的侧壁、该防焊层之该等第一开口的侧壁以及该等导电焊垫;在该导电层上电镀一金属层,该金属层填满该等第一开口与该等第二开口;进行平坦化,以去除该光阻层上的该导电层以及该金属层,只留下位于该等第一开口与该等第二开口中的导电层以及金属层;以及移除该光阻层,并露出剩余的导电层以及金属层。
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