[发明专利]对于用于沉积含铝金属膜和含铝金属氮化物膜的装置的清洁方法无效
| 申请号： | 200610126946.8 | 申请日： | 2006-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN1990898A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 李起薰;李相镇;徐泰旭 | 申请（专利权）人： | 株式会社整合制程系统 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C16/34;B08B3/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 韩国450－0*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种对于用于沉积薄膜的装置的干燥清洁方法，所述装置沉积含铝金属膜和含铝金属氮化物膜。所述方法包括将用于沉积薄膜的装置反应室内部温度维持在430℃或更高，且通过向所述反应室内供应包括氯气的清洁气体来清洁所述反应室内部。当难以将反应室内部温度维持在430℃或更高时，所述方法包括通过使用包括氯气等离子的清洁气体来清洁所述反应室内部。因此，可有效清洁用于沉积薄膜的装置，而不具有残余产物和颗粒物，所述装置沉积氮化铝钛膜和相似类型的薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 对于 用于 沉积 金属膜 金属 氮化物 装置 清洁 方法 | ||
【主权项】：
1、一种对于用于沉积薄膜的装置的干燥清洁方法，所述装置沉积含铝金属膜和含铝金属氮化物膜，所述对于用于沉积薄膜的装置的干燥清洁方法包含：将用于沉积薄膜的所述装置的反应室的内部温度维持在430℃或更高；和通过向所述反应室内供应包括氯气的清洁气体来清洁所述反应室内部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社整合制程系统，未经株式会社整合制程系统许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610126946.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：内燃机的控制装置和方法
- 下一篇：建筑机械的发动机控制装置
- 同类专利
- 专利分类
