[发明专利]形成掩模结构的方法和使用其形成微小图形的方法

摘要

在形成掩模结构的方法中，在衬底上形成第一掩模，第一掩模包括具有多个掩模图形部分的第一掩模图形和具有边角部分的第二掩模图形，该多个掩模图形部分在其间具有开口，该边角部分的内侧壁是弯曲的。在第一掩模上形成牺牲层。在该牺牲层上形成硬掩模层。在部分地除去硬掩模层，直到邻近于边角部分的牺牲层被露出之后，由除去牺牲层之后的空间中剩下的硬掩模层形成第二掩模。在衬底上可以容易地形成具有精细结构的微小图形。

主权项

1.一种制造掩模结构的方法，包括：在衬底上形成第一掩模，该第一掩模包括具有多个掩模图形部分的第一掩模图形和具有边角部分的第二掩模图形，该多个掩模图形部分在其间具有开口，该边角部分的内侧壁是弯曲的；在第一掩模上形成牺牲层；在牺牲层上形成硬掩模层；部分地除去该硬掩模层，直到邻近于边角部分的牺牲层被露出；以及除去牺牲层，以由开口中剩下的硬掩模层形成第二掩模。