[发明专利]喹啉类化合物及其中间体、制备方法和应用有效
| 申请号： | 200610148118.4 | 申请日： | 2006-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN101210011A | 公开（公告）日： | 2008-07-02 |
| 发明（设计）人： | 蔡正艳;周伟澄;郝群 | 申请（专利权）人： | 上海医药工业研究院 |
| 主分类号： | C07D405/06 | 分类号： | C07D405/06;A61K31/4709;A61P3/06;A61P9/10 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 薛琦 |
| 地址： | 200040*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一类如式A所示的喹啉类化合物及其药学上可接受的溶剂化物、光学异构体或多晶型物和其如式D所示的反应中间体化合物；其中，R1、R2和R3分别独自的为H，卤素或如式H所示的基团；其中，R为H，卤素，C1～C4的烃基或C1～C4的烃氧基。本发明还公开了其制备方法和在制备抑制HMG CoA还原酶以及治疗高血脂相关性疾病的药物中的应用。与现有技术中已有的氟伐他汀，瑞舒伐他汀和匹伐他汀相比，本发明的喹啉类化合物具有更好的抑制HMG CoA还原酶的活性，可用于治疗高血脂相关性疾病。 | ||
| 搜索关键词： | 喹啉 化合物 及其 中间体 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一类如式A所示的喹啉类化合物及其药学上可接受的溶剂化物、光学异构体或多晶型物；![]()
其中，R1、R2和R3分别独自的为H，卤素或如式H所示的基团；![]()
其中，R为H，卤素，C1～C4的烃基或C1～C4的烃氧基。
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