[发明专利]有机发光显示器基板电极的图形化方法有效

专利信息
申请号: 200610148153.6 申请日: 2006-12-28
公开(公告)号: CN101212028A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: 张积梅;周刚 申请(专利权)人: 上海广电电子股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L21/28;H01L21/3213
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 代理人: 吴宝根
地址: 200060*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种有机发光显示器基板电极的图形化方法,涉及有机发光显示器技术领域;本发明解决了刻蚀时透明导电氧化物电极刻断的技术问题;该方法步骤如下:首先制作包含透明导电氧化物电极图形及金属电极图形的第一掩膜版;在带有金属的透明导电氧化物电极玻璃上途敷正性光刻胶;用第一掩膜版作为掩膜,进行曝光;显影、烘烤;对金属进行蚀刻;对透明导电氧化物电极进行蚀刻;脱膜;其次制作包含覆盖金属电极区域的图形的第二掩膜版;在基板上途敷正性光刻胶;用第二掩膜版作为掩膜,进行曝光;显影、烘烤;对金属进行蚀刻;脱膜。本发明利用了刻蚀中透明导电氧化物刻蚀液与金属刻蚀液互不作用的特性,避免了现有技术中透明导电氧化物电极的刻断。
搜索关键词: 有机 发光 显示器 电极 图形 方法
【主权项】:
1.一种有机发光显示器基板电极的图形化方法,其特征在于,方法的步骤如下:1)制作包含透明导电氧化物电极图形及金属电极图形的第一掩膜版;2)在带有金属的透明导电氧化物电极玻璃上途敷正性光刻胶;3)用第一掩膜版作为掩膜,进行曝光;4)显影、烘烤;5)对金属进行蚀刻;6)对透明导电氧化物电极进行蚀刻;脱膜;7)制作包含覆盖金属电极区域的图形的第二掩膜版;8)在基板上途敷正性光刻胶;9)用第二掩膜版作为掩膜,进行曝光;10)显影、烘烤;11)对金属进行蚀刻;脱膜。
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