[发明专利]阻挡膜形成用材料及使用了它的图案形成方法

摘要

本发明提供一种图案形成方法，该图案形成方法可以防止浸液曝光用液体穿过保护抗蚀膜免受该液体影响的阻挡膜而向抗蚀膜浸透的情况，从而能够获得具有良好形状的微细图案。该图案形成方法在形成于基板(101)上的抗蚀膜(102)上，形成含有聚合物和利用热使该聚合物产生交联反应的交联剂的阻挡膜(103)。接下来，将所形成的阻挡膜(103)加热而将聚合物交联后，在阻挡膜(103)上配置了液体(104)的状态下，藉由阻挡膜(103)向抗蚀膜(102)选择性地照射曝光而进行图案曝光。接下来，在将阻挡膜(103)除去后，通过对进行了图案曝光的抗蚀膜(103)进行显影，由抗蚀膜(102)形成抗蚀图案(102a)。

主权项

1.一种阻挡膜形成用材料，用于在抗蚀膜上配置液体、将所述抗蚀膜曝光时在所述抗蚀膜和所述液体之间形成阻挡膜，所述阻挡膜形成用材料含有聚合物和使所述聚合物产生热交联反应的交联剂。