[发明专利]等离子体反应器中离子密度、能量分布及解离的独立控制无效
| 申请号： | 200610150519.3 | 申请日： | 2006-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN1953635A | 公开（公告）日： | 2007-04-25 |
| 发明（设计）人： | 约翰·P·荷文;丹尼尔·J·霍夫曼 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/02 | 分类号： | H05H1/02;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种在等离子体反应器中处理工件的方法，包括将来自具有三个各自频率的至少三个RF功率源的RF功率耦合到反应器中的等离子体；通过选择至少三个RF功率源中的第一对的功率级之间的比率而设置离子能量分布形态；并且通过选择至少三个RF功率源中的第二对的功率级之间的比率而设置离子解离和离子密度。所述三个各自频率可以是LF频率、HF频率或VHF频率，其中所述第一对与LF频率和HF频率相对应而第二对与HF频率和VHF频率相对应。另外，所述功率源包含四个RF功率源，其中第一对与HF频率和LF频率相对应而第二对与VHF频率和另一频率相对应。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 反应器 离子 密度 能量 分布 解离 独立 控制 | ||
【主权项】：
1.一种在等离子体反应器中处理工件的方法，包括：将来自三个各自频率的至少三个RF功率源的RF功率耦合到所述反应器中的等离子体；通过选择所述至少三个RF功率源中的第一对的功率级之间的比率而设置离子能量分布形态；以及通过选择所述至少三个RF功率源中的第二对的功率级之间的比率而设置离子解离和离子密度。
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