[发明专利]具有特定孔径分布的沉淀硅石有效
申请号: | 200610151392.7 | 申请日: | 2006-09-08 |
公开(公告)号: | CN101139096A | 公开(公告)日: | 2008-03-12 |
发明(设计)人: | O·施滕策尔;A·布卢姆;H·-D·卢金斯兰德;R·施莫尔;H·托马;S·乌尔兰德特;A·韦迈尔 | 申请(专利权)人: | 德古萨公司 |
主分类号: | C01B33/12 | 分类号: | C01B33/12;C08L21/00;C08K3/36 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘维升;林森 |
地址: | 德国杜*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及沉淀硅石,所述沉淀硅石具有特别宽的孔径分布的孔隙,其孔径小于孔体积分布函数的导数的最大值的孔径。本发明还涉及所述沉淀硅石的生产方法和用途。 | ||
搜索关键词: | 具有 特定 孔径 分布 沉淀 硅石 | ||
【主权项】:
1.沉淀硅石,其特征在于以下物理化学参数:孔径分布的相对宽度γ 4.0-10.0(gnm)/ml,Sears值V2 28-40ml/(5g),Sears值V2/CTAB比率 0.18-0.28ml/(5m2),CTAB 100-200m2/g。
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