[发明专利]高解析度负型光阻剂有效
| 申请号： | 200610152352.4 | 申请日： | 2006-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN101154043A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 郭光埌;戴伟仁;温世豪;陈健龙;赖育成 | 申请（专利权）人： | 新应材股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周春发 |
| 地址： | 中国台湾桃园县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明的负型光阻剂为一种新的光阻组成，其主要成分为：高分子树脂(Resin)、颜料(Pigment)、感光起始剂(Photo initiator)、单体(Monomer)、溶剂(Solvent)，以及添加剂(Additives)；其中，高分子树脂(Resin)的分子量(Mw)最好低于40,000，而且使用水溶性单体增加显影对比，俾在光阻图像(Pattern)成像后，能够有效缩短光阻的图像斜边(Taper)长度，使光阻层图像的线宽(CD)值愈接近光罩图像大小，进而获致较佳的解析度。 | ||
| 搜索关键词： | 解析度 负型光阻剂 | ||
【主权项】：
1.一种光阻剂，是由高分子树脂、颜料、感光起始剂、单体、溶剂，以及添加剂所组成；其中，该高分子树脂为分子量低于40,000。
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