[发明专利]抗辐射结构无效
申请号: | 200610159883.6 | 申请日: | 2006-11-02 |
公开(公告)号: | CN101173992A | 公开(公告)日: | 2008-05-07 |
发明(设计)人: | 林燕秀;苏宗粲;张明智;张佑嘉 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 魏晓刚;李晓舒 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种抗辐射结构,包括一基材;一反射层,邻接该基材之上;以及一周期性光栅,邻接该反射层。本发明亦提供另一种抗辐射结构,包括一基材,及一周期性光栅邻接该透明基材。上述的抗辐射结构可反射或绕射特定波段的入射辐射。 | ||
搜索关键词: | 辐射 结构 | ||
【主权项】:
1.一种抗辐射结构,包括:一基材;一反射层,邻接该基材;以及一周期性光栅,置于该反射层之上,用以反射一入射辐射。
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